在上海国家会展中心举办的第26届中国国际工业博览会上，朗道燧岩展示了一款自主研发的EUV光源系统样机。这款样机是国产EUV光源领域的一项重要进展，也是首次在公开场合亮相，标志着从实验室研发向产业化迈出了关键步伐。极紫外光源是制造7nm及以下先进制程芯片的三大核心部件之一，由于长期以来受到国外技术垄断与禁运的影响，一直是中国高端芯片自主可控的瓶颈。

展会现场，工作人员介绍这款光源系统的国产化率达到90%，大部分核心零部件均为自主研发，且技术路线与国际一流厂商保持一致，能够应用于芯片的曝光测试。不过，该光源系统仍需3至5年的时间才能实现量产。

朗道燧岩的官方网站显示，其低功率EUV光源系统FlintNano LPP-OXXO已经进入产品化阶段，具备1000W的激光驱动功率，频率范围为1至20kHz，转换效率超过2%，EUV输出能量超过15W，能够持续工作超过100小时，产生的等离子体尺寸为60微米。此外，高功率极紫外光源系统FlintMicro-LPP系列也已完成原理论证。 球友会

朗道科技以半导体制造专用设备的研发、生产及相关技术服务为主，其创始人王豪博士团队源于清华大学气体放电等离子体实验室，专注于LPP-EUV光刻光源技术，努力解决高端装备领域的技术瓶颈。该公司成立于2024年，并在2025至2026年期间完成了多轮融资，包括来自张江高科旗下燧玥创投的天使轮、天使+轮及A轮融资，投资方涉及沃衍资本、中芯聚源等。